Berhentilah Memanaskan Dinding Peralatan Anda (Dan Mulailah Memanaskan Wafer Itu Sendiri)
Sebagian besar elemen pemanas standar hanya memancarkan energi ke segala arah. Hal ini merupakan masalah besar bagi peralatan pemrosesan wafer.
Bayangkan saja: sebagian besar panas tersebut bahkan tidak sampai ke permukaan wafer. Panas tersebut malah diserap oleh dinding-dinding bagian dalam peralatan tersebut. Akibatnya, dinding-dinding tersebut menjadi sangat panas, dan hal ini merupakan pemborosan energi yang sia-sia. Lebih buruk lagi, hal ini juga berbahaya bagi keselamatan pengguna. Tidak ada yang ingin operator terluka hanya karena harus menyentuh bagian dalam mesin tersebut.
Cara Mengendalikan Panas dengan Benar
Kita dapat mengatasi masalah ini dengan menggunakan lampu inframerah berarah. Alih-alih menggunakan tabung kuarsa biasa, kita menggunakan reflektor dan lapisan khusus untuk mengarahkan panas tepat ke tempat yang dibutuhkan. Dengan demikian, panas akan mengenai permukaan wafer saja, tanpa menyebar ke bagian lainnya.
Jika Anda melihat bahwa casing peralatan Anda menjadi terlalu panas untuk disentuh, kemungkinan besar lampu tersebut memancarkan panas yang terlalu luas. Itu merupakan pertanda bahwa panas tersebut bocor keluar.
Bagian yang Sulit
Hal ini bukanlah situasi yang bisa diabaikan begitu saja. Pemanasan berarah membutuhkan ketelitian yang tinggi. Jika posisi lampu berubah sedikit saja, maka akan muncul area dingin pada permukaan wafer. Hal ini menunjukkan betapa sensitifnya sistem ini. Selain itu, Anda juga perlu memperhatikan kondisi reflektor tersebut. Seiring waktu, reflektor tersebut bisa beroksidasi atau kotor. Ketika hal ini terjadi, pancaran panas akan kembali tersebar, sehingga suhu dinding peralatan akan naik kembali.
Membuatnya Lebih Aman dan Mudah
Keuntungan terbesar dari sistem ini adalah adanya kemampuan untuk mengontrol kipas pendingin. Dengan demikian, beban kerja kipas pendingin pun berkurang. Karena tidak ada panas yang berlebihan yang masuk ke dalam peralatan, udara di dalamnya akan tetap lebih dingin. Saya selalu merekomendasikan untuk menggunakan Sensor berketelitian tinggi yang dapat memantau permukaan wafer secara langsung, bukan hanya udara di sekelilingnya. Dengan cara ini, bagian dalam peralatan akan tetap dingin, sementara Anda tetap mendapatkan profil suhu yang tepat untuk proses pemrosesan wafer. Sangat sederhana.