Di fasilitas manufaktur, Anda tentu tahu prosedurnya: sedikit saja perubahan suhu sebesar 0,2°C selama proses pemanasan fotorezista dapat mempengaruhi dimensi kritis benda kerja, sehingga berdampak pada penurunan kualitas produk. Inilah mengapa penggunaan pemanas inframerah dalam ruang vakum sangatlah penting—di tempat di mana proses konduksi dan konveksi terbatas, yaitu di dalam ruang vakum dengan tekanan rendah, selama proses pemanasan ringan maupun intensif, serta pada tahap pemanasan pada tingkat wafer itu sendiri.
Yang penting dalam desain ini
Kami merancang pemanas ini menggunakan emitor inframerah gelombang pendek yang terbungkus dalam lapisan kuarsa. Dengan demikian, responsnya cepat dan outputnya tetap stabil. Sepanjang proses produksi, suhu pada permukaan wafer tetap konstan, dalam rentang ±0,1°C. Tingkat repetitivitas suhu antar siklus produksi adalah ≤±0,5°C. Desain ini juga menghasilkan zero partikel, sehingga cocok digunakan di ruang bersih kelas 1–100. Kontrol suhu dilakukan secara tertutup, dengan sensor yang telah dikalibrasi sesuai dengan respons emitor tersebut—bukan hanya berdasarkan suhu dinding ruang vakum.
Mengapa desain ini efektif
Dalam proses litografi, diperlukan proses pemanasan yang konsisten untuk menentukan viskositas cairan fotorezista, serta proses pemanasan intensif untuk memastikan pola yang diinginkan terbentuk dengan baik. Dalam proses pengemasan, diperlukan profil suhu yang konsisten agar proses underfill dan reflow berjalan lancar, tanpa adanya gas yang keluar dari bahan tersebut. Pemanas inframerah dalam ruang vakum ini dapat beroperasi 24/7 tanpa gangguan, dan konsumsi energinya tetap rendah. Hal ini berarti jumlah produk yang perlu diperbaiki menjadi lebih sedikit, batasan spesifikasi produk bisa lebih ketat, dan waktu pemeliharaan pun dapat direncanakan dengan lebih baik.
Beberapa catatan praktis
Pemanas ini membutuhkan penyesuaian posisi yang tepat di dalam ruang vakum, serta pasokan daya yang stabil agar stabilitas spektrumnya terjaga. Pemanas ini dapat digunakan bersama dengan komponen-komponen standar dalam ruang vakum, tetapi integrasinya harus memperhitungkan faktor massa termal dan perlindungan terhadap komponen-komponen di sekitarnya. Lakukan uji coba singkat untuk menentukan nilai emisivitasnya, serta menetapkan parameter PID sesuai dengan geometri ruang vakum tersebut.