Bei der Trocknung der Lötmaske geht es nicht um eine bloße Formalität – es handelt sich dabei um einen Prozess, bei dem die Temperatur genau kontrolliert werden muss, um eine konstante Qualität zu gewährleisten. Wenn die Temperatur abweicht oder die Homogenität sinkt, entstehen Unvollkommenheiten bei der Trocknung sowie Defekte, die erst später beim Verpacken sichtbar werden. Wir haben unser Modul für die Trocknung der Lötmaske so gestaltet, dass eine präzise Kontrolle auf Waferebene möglich ist – dadurch wird der Prozess reproduzierbar und zuverlässig.
Was wirklich wichtig ist:
Das System gewährleistet eine Temperaturstabilität von ±0,1 °C über die gesamte Fläche des Wafers. Dabei wird Energie mithilfe einer optimierten NIR-/Quarz-Halogen-Technologie in den Widerstand eingeleitet – ohne dass die Temperatur des Substrats überschritten wird. Die Heizzone ist für den Einsatz in Reinräumen der Klasse 1–100 geeignet; außerdem werden Materialien mit geringer Ausgasung verwendet sowie ein Luftstrom kontrolliert, um Verunreinigungen aus der Heizkammer fernzuhalten. Die Profile für die weiche bzw. harte Trocknung bleiben bei jedem Durchlauf konstant, da die thermische Reaktion schnell und vorhersehbar ist – zudem werden Schwankungen durch Laständerungen ausgeglichen.
Warum muss das so funktionieren?
Bei der Herstellung von Wafern muss die Trocknung der Lötmaske eng mit den Schritten der Lithografie sowie der anschließenden Verpackung synchronisiert werden. Eine hohe thermische Homogenität reduziert Randeffekte – dadurch muss man weniger Zeit mit Anpassungen der Prozesseinsätze verbringen. Beim wiederholten Ablauf des Prozesses gibt es weniger Ausschuss und die Geräteleistung bleibt zuverlässig – 24/7. Durch schnelle Stabilisierung und minimale Leerlauftemperaturen bleibt der Energieverbrauch unter Kontrolle – somit können die Betriebskosten gesenkt werden, ohne die Produktivität zu beeinträchtigen.
Das Modul ist kompakt, doch seine Abmessungen sowie die Anforderungen an die Belüftung müssen weiterhin mit der Anordnung der Maschinen in der Produktionslinie übereinstimmen. Es wird eine kurze Einrichtungszeit benötigt, um das Trocknungsprofil an die Eigenschaften des Widerstands sowie des Substrats anzupassen – besonders bei dünnen Wafeln, bei denen die thermische Masse die Reaktion beeinflusst. Sobald das Profil festgelegt ist, fungiert das System als zuverlässiger Bestandteil des Prozesses.