Präziser Infrarot Sensor für Wafer

Tue, 23 Jun 2026 13:34:21 +0800

In den Lithografieanlagen werden die Parameter des Fotolacks durch das Weichbrennen und Hartbrennen festgelegt. Eine Schwankung von 2°C kann dazu führen, dass der Wert von Ttop um 20 nm changeiert – diese Schwankungen zeigen sich wiederum als Variationen in der Breite der Linien auf den Wafern. Es ist daher notwendig, eine Temperaturkontrolle zu haben, bei der die Werte gemessen, wiederholt und überwacht werden können.

Was wirklich wichtig ist
Wir haben den präzisen Infrarotsensor um einen stabilen NIR-Emitter sowie einen kalibrierten Detektor herum konstruiert. Dadurch bleibt die thermische Homogenität auf der Waferoberfläche bei ±0,1°C während des Brennvorgangs erhalten. Der Sensorkopf passt durch enge Öffnungen im Ofen, und die Optik ist vor Ausgasungen geschützt – dadurch bleiben die Messwerte in Reinräumen der Klasse 1–100 konstant. Die Vermeidung von Partikeln entsteht nicht zufällig, sondern durch das Vermeiden von drehenden Teilen sowie durch eine feste Ausrichtung der Sensoren. Die Wiederholgenauigkeit der Messwerte liegt stets bei 0,1%, sodass langandauernde Prozesse ohne Neukalibrierung ablaufen können.

Präzision on Custom Warm IR Heater Builds

Präziser Infrarot Sensor für Wafer