Élément de chauffage pour cuisson douce en lithographie
Dans les installations de fabrication de 300 mm, le processus de chauffage doux ne sert pas à préchauffer les wafers. Il s’agit plutôt du premier...
Lampe de four de lithographie pour semi conducteurs
Dans une usine de production 7x24 heures, le séchage du photorésistant n’est pas simplement une étape supplémentaire. C’est plutôt le facteur décisif...
Pièce de rechange pour lampe de lithographie ASML
Sur le plan de production, le budget thermique pour chaque lot à traiter est fixé une fois pour toutes. Si la puissance émise par la lampe varie ou...