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		<title>Mou; Doux on Custom Warm IR Heater Builds</title>
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				<title>Élément de chauffage pour cuisson douce en lithographie</title>
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				<pubDate>Thu, 02 Jul 2026 03:54:15 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-heater-build.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png&#34; alt=&#34;Élément de chauffage pour cuisson douce en lithographie&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Dans les installations de fabrication de 300 mm, le processus de chauffage doux ne sert pas à préchauffer les wafers. Il s’agit plutôt du premier étape dans le contrôle des dimensions critiques des wafers. Une variation de température de 2 °C sur le wafer peut entraîner des variations de quelques nanomètres dans les dimensions critiques, ce qui peut avoir des conséquences graves pour toute la série de wafers traités. L’élément de chauffage doit donc maintenir une stabilité thermique équivalente à celle des optiques utilisées pour le balayage des wafers.&lt;/p&gt;</description>
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