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		<title>(NIR) on Custom Warm IR Heater Builds</title>
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		<description>Recent content in (NIR) on Custom Warm IR Heater Builds</description>
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			<lastBuildDate>Sat, 27 Jun 2026 01:54:25 +0800</lastBuildDate>
		
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				<title>Ampleur émettrice en infrarouge proche (NIR)</title>
				<link>http://warm-ir-heater-build.com/fr/posts/near-infrared-nir-emitter-bulb/</link>
				<pubDate>Sat, 27 Jun 2026 01:54:25 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-heater-build.com/images/c4487c91a5d0bd93963bf8b3a19ba704.png&#34; alt=&#34;Ampleur émettrice en infrarouge proche (NIR)&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Sur la ligne de 300 mm, le contrôle de l’épaisseur des lignes dépend entièrement du processus de cuisson douce et de cuisson forte. Une déviation de 2 °C dans la zone de chaleur peut entraîner une baisse significative du rendement en un instant. Il est donc nécessaire d’utiliser une source thermique capable de garantir une fiabilité équivalente à celle du scanner – et pas simplement un chauffage classique.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Ce qui est important sur le plan technique&lt;/strong&gt;&#xA;Nous utilisons une lampe émettrice en infrarouge proche (NIR), qui permet d’obtenir une uniformité de température de ±0,1 °C sur toute la surface de la wafer. La chaleur est transmise rapidement, par rayonnement, sans toucher directement la wafer. Le spectre lumineux est ajusté de manière à ce que le photo-résistant absorbe bien la chaleur, sans que le substrat ne soit affecté. Cela permet de maintenir le budget thermique sous contrôle.&lt;/p&gt;</description>
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