Capteur IR de précision pour wafer

Tue, 23 Jun 2026 13:34:21 +0800

Sur le poste de lithographie, c’est lors des étapes de cuisson douce et de cuisson forte que le profil du photorésiste est déterminé. Une variation de 2 °C peut entraîner un changement de Ttop de 20 nm ; cette variation se traduit par des variations de largeur des lignes sur l’ensemble des wafers. Il est donc nécessaire d’avoir un contrôle précis de la température, que l’on puisse mesurer, reproduire et suivre.

Ce qui est important dans ce processus Nous avons conçu ce capteur IR haute précision autour d’un émetteur NIR stable et d’un détecteur calibré. Ainsi, l’uniformité thermique au niveau des wafers reste comprise entre ±0,1 °C pendant toute la durée de la cuisson. La tête du capteur peut passer à travers les ouvertures étroites du four, et ses composants optiques sont hermétiquement scellés pour éviter toute déperdition de gaz. Cela permet de maintenir des lectures fiables même dans des chambres propres de classe 1–100. L’absence totale de particules n’est pas qu’une promesse : cela provient du fait qu’il n’y a pas de pièces en mouvement et que l’alignement est constant. La répétabilité des mesures reste inférieure à 0,1 % en permanence, ce qui permet de continuer à utiliser l’équipement sans avoir besoin de recalibration.

Précision on Custom Warm IR Heater Builds

Capteur IR de précision pour wafer