ओवन on Custom Warm IR Heater Builds

अर्धचालक ओवन के हीटिंग तत्व/उपकरण

Wed, 08 Jul 2026 06:50:23 +0800

सेमीकंडक्टर हैलोजन हीटिंग एलिमेंट: उच्च-घनत्व वाले वेफरों के उत्पादन हेतु डिज़ाइन किया गया
आइए, सेमीकंडक्टर निर्माण की प्रक्रिया के बारे में बात करते हैं। ऐसी जगहों पर, हर सेकंड महत्वपूर्ण होता है, और हर बार उचित तापमान ही आवश्यक होता है।
यह हैलोजन हीटिंग एलिमेंट, ऐसी ही कठिन परिस्थितियों हेतु ही डिज़ाइन किया गया है। हमने इसे उन्नत वेफर उत्पादन प्रक्रियाओं हेतु ही विकसित किया है। हमने इसे केवल प्रयोगशाला में ही नहीं, बल्कि वास्तविक उत्पादन प्रक्रियाओं में भी परखा है। क्योंकि जब मशीनें काम करने लगती हैं, तो उनके प्रदर्शन को नंबरों के द्वारा ही मापा जाता है।

सेमीकंडक्टर लिथोग्राफी ओवन लैंप

Fri, 26 Jun 2026 01:53:49 +0800

7×24 घंटे काम करने वाली फैक्ट्रियों में, फोटोरेजिस्ट को गर्म करना कोई साधारण प्रक्रिया नहीं है। यह तो ऐसा चरण है जिसके द्वारा ही यह तय होता है कि वेफर काम करेगा या नष्ट हो जाएगा।
जब ओवन का लैम्प ठीक से काम नहीं करता, तो वेफर पर तापमान समान नहीं रहता। इसके कारण वेफर की गुणवत्ता प्रभावित हो जाती है। मैन्युअल तरीकों से इस समस्या का समाधान संभव नहीं है; इसके लिए ऐसा थर्मल स्रोत आवश्यक है जो हमेशा ठीक जगह पर ही रहे।

स्वच्छ कक्ष ओवन इन्फ्रारेड हीटर

Sun, 07 Jun 2026 01:43:05 +0800

300mm लाइन पर, बेक तापमान में 0.5°C का ड्रीफ्ट CD नियंत्रण को प्रभावित करेगा और स्क्रैप बढ़ा देगा। एक Class 1–100 क्लीनरूम में, हीटर से एक पार्टिकल ही एक डाई को नष्ट करने के लिए पर्याप्त होता है। हमने दोनों विफलता मोड को खत्म करने के लिए हमारा क्लीनरूम इन्फ्रारेड हीटर विकसित किया है।

तकनीकी रूप से क्या महत्वपूर्ण है
हम तेज़ और सीधे ऊर्जा हस्तांतरण के लिए शॉर्ट-वेव इन्फ्रारेड इमिटर्स का उपयोग करते हैं, और बेक क्षेत्र में ±0.1°C की वेफर-स्तरीय समानता बनाए रखते हैं। तापमान रैम्प और सॉक रन-टू-रन रिपीटेबल होते हैं, जिससे आपका सॉफ्ट बेक और हार्ड बेक प्रोफाइल स्थिर रहता है। हीटर का शरीर क्लीनरूम-अनुकूल है—सतहें चिकनी हैं, कम गेसिंग वाले सामग्री उपयोग होते हैं—और ऑपरेशन के दौरान यह शून्य पार्टिकल उत्सर्जन करता है। नियंत्रण उन्नत नोड्स पर थर्मल बजट को संरक्षित करने के लिए पर्याप्त सघन है, जहां मार्जिन बहुत पतला होता है।