Pada jalur produksi berukuran 300 mm, pengendalian lebar garis hasil proses sangat bergantung pada proses pemanasan yang dilakukan. Perubahan suhu sebesar 2°C di area pemanas saja sudah cukup untuk merusak kualitas produk yang dihasilkan. Diperlukan sumber panas yang mampu memenuhi persyaratan akurasi pemanasan yang dibutuhkan oleh alat pemindai tersebut—bukan sekadar pemanas biasa.
Yang penting secara teknis:
Kami menggunakan bola emitor cahaya inframerah dekat (NIR) yang mampu menciptakan kondisi termal yang seragam di seluruh permukaan wafer, dengan tingkat ketelitian ±0,1°C. Cahaya infra merah ini digunakan untuk memanaskan wafer tanpa perlu menyentuhnya secara langsung. Spektrum cahaya tersebut disesuaikan sedemikian rupa sehingga bahan fotoresist dapat menyerap energi panas dengan baik, sementara substratnya tidak terpengaruh. Hal ini membantu menjaga keseimbangan suhu selama proses pemanasan berlangsung.
Emitor ini digunakan dalam ruang kerja yang bersih, yaitu kelas 1–100. Emitor ini memiliki lapisan kuarsa yang kedap listrik, dan strukturnya dirancang sedemikian rupa agar tetap bersih dalam kondisi aliran udara laminar. Kami memastikan bahwa tidak ada partikel debu yang terbentuk selama proses berlangsung. Lampu ini dapat beroperasi selama lebih dari 5.000 jam, dengan penurunan kinerja kurang dari 5%. Dengan demikian, lampu ini dapat digunakan 24/7.
Mengapa cara ini efektif:
Di area litografi, lampu NIR menggantikan sumber cahaya halogen atau sumber cahaya gelombang menengah yang digunakan sebelumnya. Waktu pemanasan menjadi lebih singkat, dan stabilitas suhu tetap terjaga selama proses pemanasan berlangsung. Akurasi pola pemanasan pada bahan fotoresist pun meningkat, karena pemanasan dilakukan langsung pada bahan fotoresist itu sendiri, bukan pada bagian mekanis di sekitarnya.
Konsumsi daya juga berkurang, karena lampu NIR mampu mentransmisikan energi panas dengan efisien. Dengan demikian, tidak perlu sering mengganti lampu, sehingga waktu henti yang tidak terduga pun berkurang. Cara ini cocok digunakan, karena sesuai dengan spesifikasi peralatan internasional. Tidak perlu melakukan penyesuaian ulang pada seluruh sistemnya.
Yang perlu diperhatikan:
Emitor ini membutuhkan driver yang sesuai serta sistem kontrol berbasis loop tertutup. Jika digunakan sistem kontrol loop terbuka, maka akan terjadi penyimpangan suhu. Butuh waktu singkat untuk mencapai kondisi stabil secara spektral. Selain itu, posisi pemasangan emitor harus mematuhi jarak yang ditentukan dari permukaan wafer.
Lapisan kuarsa yang melindungi emitor perlu ditangani dengan hati-hati, agar tidak terkena dampak ESD. Dengan menjaga posisi emitor tetap sesuai dengan spesifikasinya, maka profil pemanasan akan tetap stabil, jumlah limbah akan berkurang, dan siklus perawatan pun menjadi lebih dapat diprediksi.