Pemanas inframerah untuk ruang vakum

Mon, 29 Jun 2026 03:21:30 +0800

Di fasilitas manufaktur, Anda tentu tahu prosedurnya: sedikit saja perubahan suhu sebesar 0,2°C selama proses pemanasan fotorezista dapat mempengaruhi dimensi kritis benda kerja, sehingga berdampak pada penurunan kualitas produk. Inilah mengapa penggunaan pemanas inframerah dalam ruang vakum sangatlah penting—di tempat di mana proses konduksi dan konveksi terbatas, yaitu di dalam ruang vakum dengan tekanan rendah, selama proses pemanasan ringan maupun intensif, serta pada tahap pemanasan pada tingkat wafer itu sendiri.

Yang penting dalam desain ini
Kami merancang pemanas ini menggunakan emitor inframerah gelombang pendek yang terbungkus dalam lapisan kuarsa. Dengan demikian, responsnya cepat dan outputnya tetap stabil. Sepanjang proses produksi, suhu pada permukaan wafer tetap konstan, dalam rentang ±0,1°C. Tingkat repetitivitas suhu antar siklus produksi adalah ≤±0,5°C. Desain ini juga menghasilkan zero partikel, sehingga cocok digunakan di ruang bersih kelas 1–100. Kontrol suhu dilakukan secara tertutup, dengan sensor yang telah dikalibrasi sesuai dengan respons emitor tersebut—bukan hanya berdasarkan suhu dinding ruang vakum.

Ruangan; Kamar on Custom Warm IR Heater Builds

Pemanas inframerah untuk ruang vakum