<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>精度 on Custom Warm IR Heater Builds</title>
		<link>http://warm-ir-heater-build.com/ja/tags/%E7%B2%BE%E5%BA%A6/</link>
		<description>Recent content in 精度 on Custom Warm IR Heater Builds</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ja</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Tue, 23 Jun 2026 13:34:21 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://warm-ir-heater-build.com/ja/tags/%E7%B2%BE%E5%BA%A6/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>ウェーハ用高精度IRセンサー</title>
				<link>http://warm-ir-heater-build.com/ja/posts/precision-ir-sensor-for-wafer/</link>
				<pubDate>Tue, 23 Jun 2026 13:34:21 +0800</pubDate>
				<guid>http://warm-ir-heater-build.com/ja/posts/precision-ir-sensor-for-wafer/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-heater-build.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png&#34; alt=&#34;ウェーハ用高精度IRセンサー&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;リソグラフィーフロアにおいて、ソフトベイクとハードベイクの段階でフォトレジストのパターンが決定されます。2°Cの温度変動だけで、Ttopの値は20nmも変わってしまいます。このような変動が、ワーク全体にわたって線幅のばらつきとして現れます。したがって、測定可能で、再現性があり、追跡可能な温度制御が必要です。&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
