Bersih on Custom Warm IR Heater Builds

Pemanas inframerah untuk bilik bersih

Tue, 28 Jul 2026 03:08:32 +0800

Mengurangkan Penggunaan Karbon Dalam Proses Pembuatan Semikonduktor Menggunakan Pemanasan Inframerah
Proses pembuatan semikonduktor memerlukan kawalan yang tepat terhadap suhu. Suhu yang tepat sangat penting, dan kita tidak boleh membiarkan sebarang zarah debu atau molekul gas merosakkan wafer tersebut.

Selama ini, kaedah pemanasan yang digunakan ialah menggunakan ketuhar konveksi. Namun, sebenarnya cara ini merupakan pembaziran tenaga yang besar. Ia sama seperti memanaskan seluruh rumah hanya untuk memanaskan sekeping silikon kecil sahaja.

Oleh itu, kita beralih kepada penggunaan lampu pemanasan inframerah. Daripada memanaskan udara, haba dialirkan secara langsung ke permukaan wafer. Cara ini lebih efisien, cepat, dan dapat mengurangkan jejak karbon di bilik kawalan bersih tersebut.

Pemodenan peralatan bilik bersih di fasiliti pengeluaran

Wed, 24 Jun 2026 01:25:38 +0800

Jika anda berjalan di sepanjang koridor tersebut, anda akan dapat merasakan apabila plat pembakaran mula menghadapi masalah semasa proses pembuatan. Profil penyebaran cahaya fotorezist menjadi tidak stabil, dan kualiti permukaan wafer juga terjejas. Peningkatan peralatan di bilik bersih bukanlah sekadar untuk tujuan estetika sahaja. Ia bertujuan untuk memastikan penggunaan tenaga yang efisien, memperketatkan kawalan proses, serta memastikan operasi berjalan lancar.

Apa yang penting dari segi teknikalnya
Kami merancang peningkatan ini agar suhu dapat dikawal dengan tepat. Kita boleh mencapai ketepatan suhu sebanyak ±0.1°C pada tahap wafer, dengan penggunaan pemancar cahaya inframerah jenis NIR dan medium-wave inframerah yang membolehkan kawalan suhu yang lebih baik. Sistem ini sesuai digunakan di bilik bersih kelas 1–100. Ia direka untuk mengurangkan jumlah zarah debu—dengan penggunaan bilik tertutup, sistem pembuangan udara yang sesuai dengan standard HEPA, serta bahan-bahan yang dipilih untuk meminimumkan pelepasan gas. Penghapusan sepenuhnya zarah debu bukanlah sekadar slogan; ia merupakan syarat reka bentuk yang perlu dipenuhi melalui ujian ketepatan di lapangan.

Pemanas inframerah oven bilik bersih

Sun, 07 Jun 2026 01:43:05 +0800

Pada talian 300mm, drift suhu bake sebanyak 0.5°C akan merosakkan kawalan CD dan meningkatkan kadar scrap. Dalam bilik bersih Class 1–100, satu zarah dari pemanas sudah cukup untuk merosakkan satu die. Kami membina pemanas inframerah bilik bersih kami untuk menghapuskan kedua-dua mod kegagalan tersebut.

Apa yang penting, dari segi teknikal
Kami menggunakan pemancar inframerah gelombang pendek untuk pemindahan tenaga yang cepat dan langsung, serta mengekalkan keseragaman tahap wafer pada ±0.1°C di seluruh zon bake. Kenaikan suhu dan tempoh rendaman adalah boleh diulang dari satu larian ke larian seterusnya, supaya profil soft bake dan hard bake anda sentiasa konsisten. Badan pemanas mesra bilik bersih—permukaan licin, bahan dengan pelepasan gas rendah—dan ia tidak menghasilkan pelepasan zarah semasa beroperasi. Kawalannya cukup ketat untuk memelihara bajet termal pada nod lanjutan, di mana margin adalah sangat tipis.