Fab on Custom Warm IR Heater Builds

Perisai kaca kuarsa untuk lampu fabrikasi

Mon, 27 Jul 2026 16:45:18 +0800

Menjaga haba di tempat yang sepatutnya dalam fasiliti pengeluaran semikonduktor
Lampu IR berkuasa tinggi menghasilkan haba yang sangat banyak. Dalam fasiliti pengeluaran semikonduktor, tenaga tersebut hanya perlu digunakan untuk memanaskan wafer sahaja. Itu saja.

Jika haba tersebut tidak dikawal dengan baik, ia akan merebak ke dinding mesin. Akibatnya, bahagian dalaman mesin akan menjadi sangat panas sehingga boleh merosakkan komponen elektronik yang sensitif. Ini merupakan situasi yang sangat berbahaya.

Mengarahkan haba ke tempat yang diinginkan
Masalahnya ialah lampu IR biasa mengeluarkan tenaga ke semua arah, iaitu 360 darjah. Untuk mengatasi masalah ini, kita menggunakan pelindung berbahan kaca kuarsa. Pelindung ini berfungsi sebagai penghalang haba, agar haba tidak tersebar ke bahagian lain mesin. Ini merupakan satu-satunya cara untuk memanaskan wafer tanpa membuat seluruh mesin menjadi terlalu panas.

Ujian penilaian tenaga untuk proses pengeringan di kilang.

Tue, 21 Jul 2026 02:34:04 +0800

Mengapa perlu terus menggunakan cara lama? Gunakanlah kaedah pemanasan inframerah untuk proses pengeringan semikonduktor.

Kebanyakan mesin pengering di kilang-kilang pemprosesan semikonduktor masih menggunakan cara lama: menghembuskan udara panas ke atas wafer, dan menunggu sehingga kelembapan pada permukaan wafer itu menguap dengan sendirinya.
Cara ini memang lambat dan menyusahkan. Anda perlu meluangkan masa untuk memanaskan udara serta dinding bilik tersebut sebelum bahan yang diproses benar-benar merasai kesan pemanasan tersebut. Ini merupakan pembaziran tenaga yang besar.

Lampu inframerah daripada serat karbon

Sun, 19 Jul 2026 09:53:45 +0800

Hentikan amalan memanaskan peralatan secara langsung: Cara yang lebih efisien untuk memanaskan alat-alat semikonduktor

Kebanyakan pemanas inframerah menyebabkan masalah kerana ia memancarkan haba ke semua arah – seolah-olah haba tersebut tersebar pada sudut 360 darjah. Ini merupakan masalah besar apabila kita bekerja di dalam bilik semikonduktor yang sempit. Kita akan membazir tenaga, dan dinding dalaman mesin juga akan menjadi terlalu panas. Ini merupakan cara yang tidak efisien, dan sebenarnya sangat menyusahkan.

Itulah sebabnya kita menggunakan lampu inframerah berbahan karbon fiber. Berbeza dengan pemanas biasa, lampu ini memfokuskan tenaga tepat ke tempat yang diperlukan. Dengan cara ini, permukaan wafer atau komponen dapat dipanaskan, sementara badan mesin tetap sejuk.

Penyelesaian pengeluaran fabrik yang mampan

Mon, 13 Jul 2026 18:12:07 +0800

Mengapa kita perlu uji setiap komponen secara menyeluruh (dan mengapa anda perlu peduli)
Dalam kilang pengeluaran yang canggih, sedikit sahaja kebocoran elektrik sudah cukup untuk merosakkan keseluruhan produk yang dihasilkan. Satu percikan api saja sudah cukup untuk merosakkan keseluruhan kumpulan wafer tersebut, atau merosakkan peralatan bernilai jutaan dolar. Ini merupakan situasi yang sangat buruk.

Itulah sebabnya kita tidak menggunakan kaedah pengujian secara rawak. Kita tidak hanya memeriksa beberapa komponen sahaja dan berharap semuanya akan berfungsi dengan baik. Setiap komponen yang keluar dari kilang kita harus melalui ujian ketahanan voltan sebanyak 100%, serta ujian rintangan penebat. Tiada pengecualian.

Kotak pemanas diperbuat daripada keluli tahan karat

Sun, 12 Jul 2026 06:13:34 +0800

Mari kita bincangkan tentang kaedah pengeringan menggunakan gelombang inframerah dalam proses pembuatan separa siap.
Ketika kita ingin mengeringkan bahan semikonduktor, kita perlu mencari keseimbangan yang tepat. Kita memerlukan suhu yang tepat, tetapi kita tidak boleh membiarkan sebarang zarah debu atau bahan kimia bersentuhan dengan wafer tersebut.
Itulah sebabnya kita menggunakan kaedah pengeringan menggunakan gelombang inframerah. Berbeza dengan cara menggunakan udara panas, kaedah ini menggunakan radiasi. Ini merupakan cara yang lebih efisien. Kita tidak perlu risau tentang masalah berkaitan penggunaan bahan kimia yang mungkin melanggar peraturan alam sekitar.

Pemodenan peralatan bilik bersih di fasiliti pengeluaran

Wed, 24 Jun 2026 01:25:38 +0800

Jika anda berjalan di sepanjang koridor tersebut, anda akan dapat merasakan apabila plat pembakaran mula menghadapi masalah semasa proses pembuatan. Profil penyebaran cahaya fotorezist menjadi tidak stabil, dan kualiti permukaan wafer juga terjejas. Peningkatan peralatan di bilik bersih bukanlah sekadar untuk tujuan estetika sahaja. Ia bertujuan untuk memastikan penggunaan tenaga yang efisien, memperketatkan kawalan proses, serta memastikan operasi berjalan lancar.

Apa yang penting dari segi teknikalnya
Kami merancang peningkatan ini agar suhu dapat dikawal dengan tepat. Kita boleh mencapai ketepatan suhu sebanyak ±0.1°C pada tahap wafer, dengan penggunaan pemancar cahaya inframerah jenis NIR dan medium-wave inframerah yang membolehkan kawalan suhu yang lebih baik. Sistem ini sesuai digunakan di bilik bersih kelas 1–100. Ia direka untuk mengurangkan jumlah zarah debu—dengan penggunaan bilik tertutup, sistem pembuangan udara yang sesuai dengan standard HEPA, serta bahan-bahan yang dipilih untuk meminimumkan pelepasan gas. Penghapusan sepenuhnya zarah debu bukanlah sekadar slogan; ia merupakan syarat reka bentuk yang perlu dipenuhi melalui ujian ketepatan di lapangan.