IR on Custom Warm IR Heater Builds

Reflektor aluminium untuk lampu IR

Sat, 25 Jul 2026 02:56:53 +0800

Hentikan pembaziran tenaga: Mengapa reflektor berlapis emas sangat penting

Jika anda menggunakan lampu IR dalam proses pemprosesan wafer, dan tidak menggunakan reflektor berkualiti tinggi, maka anda sebenarnya sedang membazir separuh daripada tenaga yang dihasilkan oleh lampu tersebut. Masalahnya mudah sahaja: lampu IR memancarkan tenaga ke arah kedua-dua belah. Tanpa cara untuk mengembalikan haba tersebut ke arah wafer, haba itu akan memanaskan udara di dalam bilik kerja anda.

Inilah sebabnya mengapa reflektor berlapis emas sangat penting.

Mengapa emas? (Dan mengapa bukan aluminium yang diproses secara halus saja?)

Aluminium yang diproses secara halus juga boleh digunakan, tetapi ia kurang efisien dalam menangkap tenaga inframerah. Emas pula mampu memantulkan tenaga inframerah dengan lebih efektif.

Hujung seramik untuk pemancar IR

Sat, 18 Jul 2026 02:10:38 +0800

Dapatkan lebih banyak haba di tempat yang benar-benar diperlukan: Emitter inframerah berlapis emas

Jika anda bekerja dengan wafer semikonduktor, anda pasti tahu bahawa pembaziran tenaga bukan sekadar masalah kewangan – ia juga merupakan masalah besar. Apabila emitter inframerah digunakan, sebahagian besar haba yang dihasilkan akan tersebar ke arah belakang, jauh dari sasaran, dan tidak memberi manfaat apa-apa kepada proses pengeluaran anda.

Kita dapat mengatasi masalah ini dengan menggunakan reflektor yang dilapisi emas serta penutup ceramik berkualiti tinggi. Dengan cara ini, tenaga tersebut akan dialirkan ke arah yang betul, iaitu ke depan.

Penderia IR yang tepat untuk wafer

Tue, 23 Jun 2026 13:34:22 +0800

Dalam proses litografi, proses “soft bake” dan “hard bake” merupakan langkah-langkah di mana profil fotorezist ditetapkan. Perubahan suhu sebanyak 2°C boleh menyebabkan perubahan Ttop sebanyak 20 nm. Perubahan ini akan menyebabkan variasi lebar garis pada permukaan wafer. Oleh itu, kawalan suhu yang tepat sangat penting agar bacaan yang diperoleh dapat diukur, diulang, dan direkod dengan tepat.

Apa yang penting di balik semua ini
Kami membangunkan sensor inframerah yang tepat dengan menggunakan pemancar NIR yang stabil serta pengesan yang telah dikalibrasi dengan baik. Dengan cara ini, keseragaman suhu pada peringkat wafer dapat dipertahankan pada tahap ±0.1°C semasa proses pembakaran. Sensor tersebut boleh dimasukkan ke dalam ruang pembakaran yang sempit, dan komponen optiknya dilindungi daripada pelepasan gas, sehingga bacaan yang diperoleh tetap konsisten dalam bilik bersih kelas 1–100. Pengeluaran zarah-zarah yang tidak diinginkan dapat dielakkan dengan menghindari penggunaan komponen yang berputar serta memastikan aliran cahaya yang konsisten. Repetibiliti output sensor kekal dalam lingkungan 0.1% sepanjang masa, jadi proses pembakaran dapat berjalan tanpa memerlukan penyesuaian semula.