Sensor on Custom Warm IR Heater Builds

Pemanas untuk mengeringkan wafer sensor MEMS

Fri, 24 Jul 2026 09:51:32 +0800

Cara yang lebih efisien untuk mengeringkan wafer MEMS (tanpa membuang tenaga)
Sejujurnya, cara tradisional untuk mengeringkan wafer MEMS memang memakan masa yang lama. Sama ada menggunakan ketuhar konveksi atau kaedah pengeringan berputar, kita tetap perlu menunggu sementara tenaga yang banyak dibazirkan begitu saja. Cara ini lambat, boros tenaga, dan sudah ketinggalan zaman.

Kami telah menemukan cara yang lebih baik. Daripada memanaskan seluruh bilik hanya untuk mengeringkan wafer, kami menggunakan haba inframerah berfrekuensi rendah. Ini merupakan pendekatan yang berbeza. Daripada memanaskan udara, kami fokus pada molekul air itu sendiri. Dengan cara ini, kelembapan dapat dihilangkan dengan cepat.

Penderia suhu untuk alat pemprosesan wafer

Sat, 18 Jul 2026 02:17:11 +0800

Berhenti memanaskan dinding peralatan anda (dan mulailah memanaskan wafer tersebut).

Kebanyakan elemen pemanas biasa akan mengeluarkan haba ke semua arah. Dalam alat yang digunakan untuk memproses wafer, ini merupakan masalah yang serius.
Fikirkanlah: sebahagian besar haba tersebut tidak sampai ke permukaan wafer. Haba tersebut hanya diserap oleh dinding dalaman peralatan tersebut. Akibatnya, dinding peralatan menjadi terlalu panas, dan ini merupakan pembaziran tenaga yang sia-sia. Lebih buruk lagi, ia boleh membahayakan keselamatan pengguna, kerana mereka mungkin cedera akibat terkena haba tersebut.

Pemanas untuk pembuatan sensor hidrogen

Fri, 17 Jul 2026 02:13:02 +0800

Menggunakan Suhu Infra Merah untuk Memproses Sensor Hidrogen dengan Betul
Ketika membina sensor hidrogen, suhu merupakan faktor yang perlu diambil kira dengan teliti. Membran yang digunakan dalam sensor ini sangat sensitif. Jika proses pengeringan bahan pelekat atau bahan konduktif tidak dilakukan dengan betul, maka hasilnya akan menjadi barang yang tidak berguna dan membuang masa.

Itulah sebabnya kami menggunakan pemanas inframerah berfrekuensi rendah. Daripada memanaskan seluruh udara di dalam bilik – yang merupakan pembaziran masa – pemanas inframerah dapat memanaskan bahan tersebut secara langsung. Cara ini lebih efektif dan tepat.

Pembungkusan sensor pintar untuk gelombang inframerah

Sun, 12 Jul 2026 06:18:02 +0800

Jangan biarkan peralatan anda bertindak seperti “oven”. Pernahkah anda menyentuh permukaan komponen semikonduktor dan terkejut kerana ia sangat panas? Perkara ini sering berlaku. Anda cuba memanaskan bahagian dalam mesin, tetapi haba tersebut tidak sampai ke tempat yang sepatutnya, sebaliknya ia diserap oleh dinding luar mesin tersebut. Ini sangat merugikan, dan sebenarnya ia merupakan masalah keselamatan yang serius bagi mereka yang mengendalikan mesin tersebut.

Sebenarnya, kebanyakan lampu inframerah akan memancarkan haba ke semua arah. Ia merupakan pancaran haba 360 darjah. Apabila bekerja dengan ruang yang sempit, ini merupakan pembaziran tenaga. Akibatnya, badan mesin akan menjadi terlalu panas, seolah-olah mesin tersebut berfungsi sebagai “oven”.

Penderia IR yang tepat untuk wafer

Tue, 23 Jun 2026 13:34:22 +0800

Dalam proses litografi, proses “soft bake” dan “hard bake” merupakan langkah-langkah di mana profil fotorezist ditetapkan. Perubahan suhu sebanyak 2°C boleh menyebabkan perubahan Ttop sebanyak 20 nm. Perubahan ini akan menyebabkan variasi lebar garis pada permukaan wafer. Oleh itu, kawalan suhu yang tepat sangat penting agar bacaan yang diperoleh dapat diukur, diulang, dan direkod dengan tepat.

Apa yang penting di balik semua ini
Kami membangunkan sensor inframerah yang tepat dengan menggunakan pemancar NIR yang stabil serta pengesan yang telah dikalibrasi dengan baik. Dengan cara ini, keseragaman suhu pada peringkat wafer dapat dipertahankan pada tahap ±0.1°C semasa proses pembakaran. Sensor tersebut boleh dimasukkan ke dalam ruang pembakaran yang sempit, dan komponen optiknya dilindungi daripada pelepasan gas, sehingga bacaan yang diperoleh tetap konsisten dalam bilik bersih kelas 1–100. Pengeluaran zarah-zarah yang tidak diinginkan dapat dielakkan dengan menghindari penggunaan komponen yang berputar serta memastikan aliran cahaya yang konsisten. Repetibiliti output sensor kekal dalam lingkungan 0.1% sepanjang masa, jadi proses pembakaran dapat berjalan tanpa memerlukan penyesuaian semula.