Wafer on Custom Warm IR Heater Builds

Jarak keselamatan untuk pemanasan wafer

Sat, 25 Jul 2026 02:49:15 +0800

Melindungi Wafer Anda dengan Baik: Hakikat Mengenai Kekuatan Dielektrik
Ketika memanaskan wafer silikon, kita tidak boleh membiarkan sebarang kesilapan berlaku. Sebuah percikan elektrik yang kecil atau kawasan di mana lapisan penebat gagal berfungsi bukan sahaja menyusahkan, tetapi juga boleh merosakkan elemen pemanas, merosakkan wafer itu sendiri, dan dalam kes yang buruk, boleh merosakkan papan kawalan secara keseluruhan. Itulah sebabnya kita menganggap kekuatan dielektrik sebagai faktor penting yang perlu diberi perhatian.

Kami menguji setiap lampu secara individu. Tiada pengecualian.
Beberapa kedai hanya menguji sebilangan kecil lampu dan menganggap bahawa yang lainnya juga baik. Kami tidak berbuat begitu. Setiap lampu harus melalui ujian tekanan voltan tinggi sebelum ia dihantar ke pelanggan.

Pemanas untuk mengeringkan wafer sensor MEMS

Fri, 24 Jul 2026 09:51:32 +0800

Cara yang lebih efisien untuk mengeringkan wafer MEMS (tanpa membuang tenaga)
Sejujurnya, cara tradisional untuk mengeringkan wafer MEMS memang memakan masa yang lama. Sama ada menggunakan ketuhar konveksi atau kaedah pengeringan berputar, kita tetap perlu menunggu sementara tenaga yang banyak dibazirkan begitu saja. Cara ini lambat, boros tenaga, dan sudah ketinggalan zaman.

Kami telah menemukan cara yang lebih baik. Daripada memanaskan seluruh bilik hanya untuk mengeringkan wafer, kami menggunakan haba inframerah berfrekuensi rendah. Ini merupakan pendekatan yang berbeza. Daripada memanaskan udara, kami fokus pada molekul air itu sendiri. Dengan cara ini, kelembapan dapat dihilangkan dengan cepat.

Penderia suhu untuk alat pemprosesan wafer

Sat, 18 Jul 2026 02:17:11 +0800

Berhenti memanaskan dinding peralatan anda (dan mulailah memanaskan wafer tersebut).

Kebanyakan elemen pemanas biasa akan mengeluarkan haba ke semua arah. Dalam alat yang digunakan untuk memproses wafer, ini merupakan masalah yang serius.
Fikirkanlah: sebahagian besar haba tersebut tidak sampai ke permukaan wafer. Haba tersebut hanya diserap oleh dinding dalaman peralatan tersebut. Akibatnya, dinding peralatan menjadi terlalu panas, dan ini merupakan pembaziran tenaga yang sia-sia. Lebih buruk lagi, ia boleh membahayakan keselamatan pengguna, kerana mereka mungkin cedera akibat terkena haba tersebut.

Pemantul cahaya untuk lampu pengeringan wafer

Tue, 14 Jul 2026 11:51:02 +0800

Mari kita bincangkan tentang aspek keselamatan elektrik yang berkaitan dengan lampu yang digunakan untuk proses pengeringan wafer.
Lampu yang digunakan dalam proses ini beroperasi dalam keadaan suhu yang sangat tinggi. Apabila kita membuat reflektor untuk lampu-lampu ini, kita perlu memikirkan bukan sahaja arah aliran cahaya, tetapi juga aspek pengasingan elektrik.

Sebabnya ialah jika lapisan pengasingan elektrik gagal berfungsi, ia akan menyebabkan arus elektrik mengalir secara tidak terkawal. Ini bukan sekadar masalah kecil – ia boleh merosakkan peralatan atau seluruh kumpulan wafer yang diproses.

Pemanas wafer yang cekap dari segi penggunaan tenaga

Mon, 13 Jul 2026 17:15:08 +0800

Memanaskan wafer tanpa menyebabkan letupan
Sejujurnya, memanaskan wafer semasa proses pembersihan kimia merupakan perkara yang sangat berisiko. Anda bekerja dengan bahan pelarut dan wap yang mudah terbakar; ia seolah-olah sedang menunggu peluang untuk meletup. Menggunakan lampu inframerah biasa dalam keadaan seperti ini bukan sahaja berbahaya, tetapi juga boleh menyebabkan bencana. Sedikit percikan api atau suhu yang terlalu tinggi sudah cukup untuk mencetuskan bencana.

Kami telah mencari cara yang lebih baik. Daripada membiarkan elemen pemanasan terdedah kepada udara, kami memasukkannya ke dalam sistem pengasingan yang tertutup.

Penderia IR yang tepat untuk wafer

Tue, 23 Jun 2026 13:34:22 +0800

Dalam proses litografi, proses “soft bake” dan “hard bake” merupakan langkah-langkah di mana profil fotorezist ditetapkan. Perubahan suhu sebanyak 2°C boleh menyebabkan perubahan Ttop sebanyak 20 nm. Perubahan ini akan menyebabkan variasi lebar garis pada permukaan wafer. Oleh itu, kawalan suhu yang tepat sangat penting agar bacaan yang diperoleh dapat diukur, diulang, dan direkod dengan tepat.

Apa yang penting di balik semua ini
Kami membangunkan sensor inframerah yang tepat dengan menggunakan pemancar NIR yang stabil serta pengesan yang telah dikalibrasi dengan baik. Dengan cara ini, keseragaman suhu pada peringkat wafer dapat dipertahankan pada tahap ±0.1°C semasa proses pembakaran. Sensor tersebut boleh dimasukkan ke dalam ruang pembakaran yang sempit, dan komponen optiknya dilindungi daripada pelepasan gas, sehingga bacaan yang diperoleh tetap konsisten dalam bilik bersih kelas 1–100. Pengeluaran zarah-zarah yang tidak diinginkan dapat dielakkan dengan menghindari penggunaan komponen yang berputar serta memastikan aliran cahaya yang konsisten. Repetibiliti output sensor kekal dalam lingkungan 0.1% sepanjang masa, jadi proses pembakaran dapat berjalan tanpa memerlukan penyesuaian semula.

Pengeringan lapisan pelindung pada wafer

Thu, 18 Jun 2026 01:31:48 +0800

Dalam proses pengeringan lapisan pelindung soldar ini, ia bukanlah sesuatu yang boleh diabaikan begitu saja. Ia merupakan proses yang memerlukan kawalan suhu yang tepat, kerana ia secara langsung mempengaruhi kualiti produk akhir. Jika suhu berubah atau ketepatan kawalan suhu menurun, maka akan timbul masalah seperti titik-titik tidak kering pada permukaan wafer, serta kecacatan yang hanya dapat dilihat setelah proses pembungkusan selesai. Kami telah merancang modul pengeringan lapisan pelindung soldar ini agar dapat mengawal suhu dengan tepat, supaya prosesnya dapat berjalan secara konsisten, tanpa sebarang masalah.