Lamp voor halfgeleiderlithografieoven
In een 7x24 uur draaiende productiefaciliteit is het bakken van de fotorezist geen gewone stap. Het bepaalt of het ontwerp werkt of dat de plaat als...
ASML lithografielamp onderdelen
Op de productielijn is het thermische budget voor elke batch vastgesteld. Als de uitgangssnelheid van de lamp verandert of de baktemperatuur afwijkt,...