Lâmpada emisora de luz no infravermelho próximo (NIR)

Sat, 27 Jun 2026 01:54:25 +0800

Na linha de 300 mm, o controle da espessura das linhas depende diretamente do processo de “soft bake” e “hard bake”. Uma variação de 2°C na área de aquecimento pode causar grandes problemas no resultado final. É necessário ter uma fonte de calor capaz de atingir a mesma precisão que o scanner – não basta apenas um aquecedor comum.

O que é importante, tecnicamente
Utilizamos uma lâmpada emissor de luz infravermelha próxima (NIR), que garante uma uniformidade térmica de ±0,1°C em toda a superfície da wafer. Ela dispersa o calor rapidamente, por radiação, sem tocar na wafer. O espectro de luz é ajustado de modo que o fotorelevante absorva bem a energia, sem que o substrato seja afetado. Isso mantém o equilíbrio térmico sob controle.

(NIR) on Custom Warm IR Heater Builds

Lâmpada emisora de luz no infravermelho próximo (NIR)