Sensores IR de precisão para wafers

Tue, 23 Jun 2026 13:34:21 +0800

Na área de litografia, os processos de tratamento térmico suave e intenso são os responsáveis por definir o perfil do fotorelativo. Uma variação de 2°C pode causar uma mudança de 20 nm no valor Ttop. Essa variação se manifesta como alterações na largura das linhas nas peças produzidas. É necessário ter um controle preciso da temperatura, capaz de ser medido, repetido e acompanhado.

O que é importante por trás disso tudo Criamos o sensor infravermelho de alta precisão com base em um emissor de luz NIR estável e em um detector calibrado. Isso permite que a uniformidade térmica nas placas de silício fique entre ±0,1°C durante o processo de tratamento térmico. A cabeça do sensor se encaixa perfeitamente nas aberturas dos fornos, e suas lentes são seladas para evitar a entrada de gases, o que garante leituras consistentes em salas limpas de classe 1–100. A ausência de partículas não é apenas um slogan: ela é obtida através da eliminação de partes móveis e da manutenção de um alinhamento preciso. A repetibilidade das medições fica dentro de 0,1%, o que permite que os processos continuem funcionando sem necessidade de recalibração constante.

Precisão on Custom Warm IR Heater Builds

Sensores IR de precisão para wafers