<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Độ Chính Xác on Custom Warm IR Heater Builds</title>
		<link>http://warm-ir-heater-build.com/vi/tags/%C4%91%E1%BB%99-ch%C3%ADnh-x%C3%A1c/</link>
		<description>Recent content in Độ Chính Xác on Custom Warm IR Heater Builds</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>vi</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Tue, 23 Jun 2026 13:34:21 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://warm-ir-heater-build.com/vi/tags/%C4%91%E1%BB%99-ch%C3%ADnh-x%C3%A1c/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Cảm biến hồng ngoại chính xác dành cho wafer</title>
				<link>http://warm-ir-heater-build.com/vi/posts/precision-ir-sensor-for-wafer/</link>
				<pubDate>Tue, 23 Jun 2026 13:34:21 +0800</pubDate>
				<guid>http://warm-ir-heater-build.com/vi/posts/precision-ir-sensor-for-wafer/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-heater-build.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png&#34; alt=&#34;Cảm biến hồng ngoại chính xác dành cho wafer&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Trong quy trình in ấn bằng phương pháp litography, các bước nung ở nhiệt độ thấp và cao chính là lúc mà đặc tính của lớp &lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;photoresist&lt;/a&gt; được xác định. Sự thay đổi nhiệt độ chỉ 2°C cũng có thể khiến độ dày của lớp photoresist thay đổi khoảng 20 nm; sự thay đổi này sẽ dẫn đến sự biến thiên về độ rộng của các đường kẻ trên wafer. Do đó, cần có hệ thống kiểm soát nhiệt độ chính xác, để có thể đo lường, lặp lại và theo dõi các giá trị nhiệt độ.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
