Arrêtez de chauffer les parois de vos équipements (et commencez plutôt à chauffer les wafers eux-mêmes)
La plupart des éléments de chauffage standard diffusent l’énergie dans toutes les directions. C’est un problème majeur dans les équipements utilisés pour traiter les wafers.
Pensez-y : la majeure partie de cette chaleur ne touche même pas le wafer. Elle se retrouve simplement stockée dans les parois intérieures de l’équipement. On obtient ainsi des “parois chaudes”, ce qui représente une perte totale d’énergie. Pire encore, c’est un vrai danger pour la sécurité. Personne ne veut qu’un opérateur se brûle simplement parce qu’il doit entrer dans la machine.
Comment contrôler réellement la chaleur
Nous résolvons ce problème en utilisant des lampes à infrarouges directionnelles. Au lieu d’utiliser simplement un tube en quartz, nous employons des réflecteurs et des revêtements spéciaux pour diriger la chaleur exactement là où elle est nécessaire.
En concentrant le faisceau, la chaleur atteint directement la surface du wafer, sans se dissiper dans le châssis de l’équipement.
Si vous constatez que la carrosserie de votre équipement devient trop chaude au toucher, il est probable que vos lampes émettent trop de chaleur. C’est un signe clair que la chaleur s’échappe.
La partie difficile
Ce n’est pas quelque chose qui fonctionne automatiquement. Le chauffage directionnel exige une précision extrême.
Si la lampe bouge ne serait-ce que de quelques millimètres, vous obtiendrez des zones froides sur le wafer. C’est d’autant plus problématique que les réflecteurs, avec le temps, peuvent s’oxyder ou se salir. Lorsque cela arrive, le faisceau se répand à nouveau, et les températures des parois augmentent à nouveau.
Pour rendre les choses plus sûres et plus simples
Le meilleur avantage de ces systèmes, c’est l’effet qu’ils ont sur les ventilateurs de refroidissement. Vous pouvez en effet réduire la charge de travail de ces ventilateurs. Comme aucune grande quantité de chaleur n’est déversée dans la cavité interne, l’air reste beaucoup plus frais.
Je préconise toujours d’associer ces lampes à des capteurs haute précision qui surveillent directement la surface du wafer, et non seulement l’air autour de lui. Ainsi, les composants internes restent refroidis, tout en permettant d’obtenir le profil thermique exact nécessaire pour le processus. Simple.