Hãy ngừng việc làm nóng các bức tường của thiết bị đi – và hãy tập trung vào việc làm nóng các tấm wafer thay vì vậy.
Hầu hết các bộ phận làm nóng thông thường đều tỏa nhiệt ra mọi hướng. Điều này gây ra nhiều vấn đề trong các thiết bị xử lý wafer. Hãy tưởng tượng xem: phần lớn nhiệt lượng đó thậm chí không chạm vào bề mặt wafer, mà chỉ lan vào các bức tường bên trong thiết bị. Điều này dẫn đến tình trạng “bức tường quá nóng”, và đó chính là sự lãng phí năng lượng. Tệ hơn nữa, điều này còn gây ra nguy cơ tai nạn cho người vận hành, vì họ có thể bị bỏng chỉ vì phải chạm vào máy móc.
Làm thế nào để kiểm soát nhiệt độ hiệu quả?
Chúng ta có thể giải quyết vấn đề này bằng cách sử dụng các bóng đèn hồng ngoại có khả năng chiếu nhiệt theo một hướng cụ thể. Thay vì sử dụng ống thạch anh thông thường, chúng ta sử dụng các tấm phản xạ và lớp phủ đặc biệt để định hướng nhiệt lượng đến đúng nơi cần thiết. Nhờ vậy, nhiệt lượng sẽ chỉ tác động lên bề mặt wafer mà thôi, không lan sang các bộ phận khác của thiết bị. Nếu bạn nhận thấy rằng vỏ thiết bị trở nên quá nóng, có lẽ các bóng đèn đang tỏa nhiệt quá mức. Đó chính là dấu hiệu cho thấy nhiệt lượng đang bị thoát ra ngoài.
Điểm khó khăn
Việc kiểm soát nhiệt độ theo hướng cụ thể không phải là điều dễ dàng. Nếu bóng đèn di chuyển vài milimét thôi, thì sẽ xuất hiện những vùng lạnh trên bề mặt wafer. Việc kiểm soát nhiệt độ đòi hỏi sự chính xác cao. Ngoài ra, bạn còn cần phải theo dõi các tấm phản xạ. Theo thời gian, chúng có thể bị oxy hóa hoặc bẩn. Khi đó, luồng nhiệt sẽ lại lan ra ngoài, và nhiệt độ của các bức tường lại tăng lên.
Làm sao để an toàn và dễ dàng hơn?
Điểm tốt nhất của việc sử dụng các hệ thống này là bạn có thể giảm tải cho các quạt làm mát. Vì không còn lượng nhiệt lớn được tỏa ra bên trong thiết bị, nên không khí bên trong sẽ mát hơn nhiều. Tôi luôn khuyên nên kết hợp các bóng đèn này với các cảm biến có độ chính xác cao, để theo dõi trực tiếp bề mặt wafer, chứ không chỉ theo dõi không khí xung quanh nó. Như vậy, bộ phận bên trong thiết bị sẽ được giữ ở nhiệt độ thấp, đồng thời bạn vẫn có được thông tin về nhiệt độ chính xác cần thiết cho quy trình xử lý wafer. Rất đơn giản.