Element na ohřev v litografii pro měkké zahřívání
V prostředí výroby čipů o velikosti 300 mm není proces „měkkého zahřívání“ pouze formou ohřevu – jedná se o první krok v kontrole kritických rozměrů...
Lampa pro pec v litografii polovodičů
V provozu 24/7 není sušení fotorezisty jen dalším krokem v procesu výroby. Jedná se o rozhodující faktor – buď vznikne funkční vzor, nebo se jedná o...
Náhradní částka pro lampu ASML lithografie
V výrobní hale je termální rozpočet pro každou série výroby pevně stanoven. Pokud dojde ke změnám v výstupním výkonu lampy nebo k odchylkám v teplotě...