Pada garis pengeluaran berukuran 300mm, kawalan ketebalan garisan bergantung sepenuhnya pada proses “soft bake” dan “hard bake”. Perubahan suhu sebanyak 2°C di kawasan hotplate boleh merosakkan hasil pengeluaran dengan cepat. Anda memerlukan sumber haba yang mampu mencapai tahap ketepatan yang sama seperti yang dicapai oleh alat pengimbas tersebut – bukan sekadar pemanas biasa.
Apa yang penting dari segi teknikal
Kami menggunakan lampu emiter inframerah dekat (NIR) yang mampu menghasilkan suhu yang seragam sebanyak ±0.1°C di seluruh permukaan wafer. Lampu ini dapat memindahkan haba dengan cepat, tanpa perlu menyentuh wafer itu sendiri. Spektrum cahaya yang dihasilkan disesuaikan sedemikian rupa agar bahan fotoresist dapat menyerap cahaya tersebut dengan efektif, sementara substrat tidak terpengaruh oleh haba tersebut. Ini membantu menjaga keseimbangan suhu yang diperlukan.
Lampu ini digunakan dalam bilik bersih kelas 1–100; ia dilindungi oleh pembungkus kuarsa yang kedap, dan susunannya memastikan suasana yang bersih dalam aliran udara laminar. Kita juga memastikan tiada zarah debu yang terbentuk semasa penggunaan lampu tersebut. Lampu ini mampu beroperasi selama 5,000 jam atau lebih, dengan penurunan prestasi kurang dari 5%. Jadi, ia boleh beroperasi 24/7.
Mengapa ia berkesan
Dalam proses litografi, lampu NIR menggantikan sumber cahaya halogen atau gelombang sederhana yang digunakan sebelum ini. Masa yang diperlukan untuk proses pembakaran berkurangan, dan kestabilan suhu tetap terjaga semasa proses “soft bake” dan “hard bake”. Ketepatan profil fotoresist juga meningkat kerana cahaya dipanaskan secara langsung pada lapisan fotoresist, bukan pada komponen lain yang ada di sekelilingnya.
Penggunaan tenaga juga berkurangan kerana lampu NIR berfungsi dengan efisien. Anda tidak perlu menukar lampu dengan kerap, sekaligus mengurangkan masa henti yang tidak dijangka. Ia sesuai digunakan bersama peralatan antarabangsa, tanpa perlu melakukan penyesuaian tambahan.
Apa yang perlu diperhatikan
Lampu emiter ini memerlukan driver yang sesuai serta sistem kawalan berkelok. Sistem kawalan terbuka akan menyebabkan masalah, jadi jangan cubanya. Ada masa yang diperlukan untuk lampu tersebut mencapai kestabilan spektrumnya, dan cara pemasangan lampu juga harus mematuhi jarak yang ditetapkan dari permukaan wafer.
Pembungkus kuarsa perlu dilindungi daripada kesan ESD. Jika lampu tersebut dipasang dengan betul, profil pembakaran akan tetap stabil, jumlah bahan buangan akan berkurangan, dan kitaran penyelenggaraan akan menjadi lebih mudah diramalkan.