Berhenti memanaskan dinding peralatan anda (dan mulailah memanaskan wafer tersebut).
Kebanyakan elemen pemanas biasa akan mengeluarkan haba ke semua arah. Dalam alat yang digunakan untuk memproses wafer, ini merupakan masalah yang serius.
Fikirkanlah: sebahagian besar haba tersebut tidak sampai ke permukaan wafer. Haba tersebut hanya diserap oleh dinding dalaman peralatan tersebut. Akibatnya, dinding peralatan menjadi terlalu panas, dan ini merupakan pembaziran tenaga yang sia-sia. Lebih buruk lagi, ia boleh membahayakan keselamatan pengguna, kerana mereka mungkin cedera akibat terkena haba tersebut.
Cara untuk mengawal haba dengan lebih baik
Kita boleh menggunakan lampu inframerah berarah untuk mengatasi masalah ini. Daripada menggunakan tiub kuarsa biasa, kita gunakan reflektor dan lapisan khas untuk mengarahkan haba ke tempat yang tepat.
Dengan cara ini, haba akan sampai ke permukaan wafer sahaja, tanpa menyebar ke bahagian lain. Jika dinding peralatan menjadi terlalu panas, kemungkinan besar lampu tersebut mengeluarkan haba yang terlalu banyak. Ini merupakan petanda bahawa haba sedang bocor keluar.
Masalah yang sukar diatasi
Ini bukanlah situasi yang boleh diselesaikan dengan mudah. Penggunaan lampu berarah memerlukan ketelitian yang tinggi. Jika kedudukan lampu berubah sedikit saja, maka akan timbul kawasan yang sejuk pada permukaan wafer. Ia sangat sensitif.
Selain itu, kita juga perlu memantau reflektor tersebut. Seiring masa berlalu, reflektor tersebut akan oksidasi atau kotor. Apabila itu berlaku, sinar haba akan tersebar semula, dan suhu dinding peralatan akan meningkat semula.
Membuatnya lebih selamat dan mudah
Kelebihan utama sistem ini ialah ia membolehkan kita mengurangkan beban pada kipas penyejuk. Oleh kerana tidak banyak haba yang dilepaskan ke dalam ruang dalaman, udara di dalamnya akan tetap sejuk.
Saya sentiasa mencadangkan agar lampu-lampu ini digabungkan dengan sensor yang tepat untuk memantau permukaan wafer, bukan hanya udara di sekelilingnya. Dengan cara ini, permukaan dalaman peralatan akan tetap sejuk, sementara kita masih dapat mendapatkan profil haba yang tepat untuk proses pemprosesan. Sangat mudah.