UHP赤外線ランプを使って工場内の炭素排出量を削減する
半導体を製造するには、正確な温度を維持することが不可欠です。長い間、私たちは抵抗式の炉を利用してきましたが、正直なところ、これらの炉は大量のエネルギーを無駄にしています。つまり、1枚のウェハを適切な温度にするために、部屋全体を加熱しなければならないのです。
そこで、私たちは超純度のUHP赤外線ランプを使用します。空気を加熱して期待するのではなく、赤外線が直接ウェハに当たるのです。これにより、効率的に温度を制御できます。
速度と効率
このランプは速く動作するように設計されています。高ワット数のクォーツを使用することで、迅速に温度を上げたり下げたりできます。熱が必要な場所だけに行くため、周囲のものが劣化する心配もありません。
この方法の利点は、待機時間が短くなることです。結果として、1枚のウェハあたりの電力消費量が大幅に低下します。これは、時間的にも経済的にも大きなメリットです。
清潔さの保持
クリーンルームでは、本来あってはならない微小な汚れでも大問題です。ガスの放出によって、一括で製品が台無しになってしまう可能性があります。
そのため、私たちは高純度の合成クォーツを使用します。安価な接着剤や低品質のセラミックは使用しません。金属不純物がシリコンに混入することのない、クリーンな材料を使用します。また、この装置は極端な高温サイクルに耐えられるほど強固です。
実際の課題
ただし、問題点もあります。もし「グリーンファクトリー」を目指すなら、単純にこの装置を使えばいいわけではありません。電力の扱い方を再考する必要があります。
高密度の赤外線ランプは多くの電流を消費します。もし電源装置が小さいと、電圧が下がってしまいます。そうなると、温度の均一性が失われ、誰も望まない問題が発生します。
また、冷却も重要です。巨大な熱量をチラーモジュールの処理能力とバランスさせる必要があります。もし冷却システムが十分でなければ、密封部品が破損し、ランプの寿命が短くなってしまいます。
確かに、電気や冷却システムの面で少し手間がかかります。しかし、その複雑さと引き換えに、エネルギー効率が大幅に向上します。これが、工場の炭素排出量を減らす最も効果的な方法です。